Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para TIC

Contacto:

ETSI Telecomunicación.

Universidad Politécnica Madrid

Avda. Complutense 30

Tel: +34 91 549 57 00 Ext 8040/3434

cemdatic@upm.es

 


la web CEMDATIC

 

 

CEMDATIC dispone de varias instalaciones de fabricación y caracterización:

  • Sala limpia con línea piloto de producción de prototipos de cristales líquidos y OLEDs
  • Fotolitografía, cañón de electrones y evaporación térmica.
  • Laboratorio para la caracterización de displays y diodos láser de alta velocidad
  • Hartman-Shack, espectrogoniómetro y OMA para la caracterización de dispositivos fotónicos.

La cámara limpia de GFA contiene una línea de fabricación completa para la construcción de dispositivos de cristal líquido mono y multipíxel, así como dispositivos LED orgánicos (OLEDs). La línea posee una gran versatilidad, pudiendo fácilmente cambiarse el tipo de dispositivo, lo que permite utilizarla para la fabricación de múltiples tipos de células test para ensayo de nuevos materiales. La intensa colaboración que mantiene el grupo con otros
laboratorios extranjeros de síntesis orgánica (en especial la Universidad Militar de Varsovia, WAT) le permite disponer de una excelente colección de materiales cristal líquido de última generación que eventualmente se aplican a las distintas líneas de trabajo en activo.

 

 

La cámara limpia del  DTE donde se albergan los medios de producción del GMME, fue construida en los años 90 con una superficie total de 120 m2 de los cuales
unos 80 m2 son de clase 1000. En ella se alojan los siguientes equipos:
• Dos sistemas de pulverización
• Dos evaporadores por haz de electrones y de efecto Joule
• Un sistema de ataque seco por plasma
• Hornos de oxidación
• Un sistema de recocido rápido
• Photo‐CVD y LPCVD
• Zona de fotolitografía
• Dos campanas de química de flujo laminar
• Una soldadora por ultrasonidos
• Un sistema de pulido y planarización.

Adicionalmente, en zona limpia, existen algunos sistemas de caracterización como un microscopio óptico, un perfilómetro, un sistema de medida de resistividad por 4 puntas, etc. Toda esta infraestructura permite al GMME desarrollar tecnologías de fabricación de componentes en película delgada y microsistemas. Adicionalmente, esta cámara limpia se usa para la impartición de una asignatura del grado de Ingeniero de Telecomunicación, el Laboratorio de Materiales y Tecnología, donde se fabrican transistores MOS sobre silicio.

 

 

El Grupo POEMMA dispone del siguiente equipamiento:

  • Laboratorio para caracterización eléctrica y magnética de materiales ( Efecto Kerr transversal y longitudinal, EIS)
  • Laboratorio para caracterización multifuncional de materiales (ferro-piro-piezoeléctricos y propiedades electro-mecánicas)
  • Micro and nano caracterización estructural
  • Deposición de capas metálicas por Sputtering (Au, Al, Cr, Pt, Cu)